專注堿性電解水制氫設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn),融合創(chuàng)新技術(shù)與經(jīng)驗(yàn)積累
發(fā)布日期:2023-02-13 16:16:20
設(shè)備組成:主體設(shè)備,輔助設(shè)備及電控設(shè)備。
主體設(shè)備組成:電解槽,附屬設(shè)備一體化框架。
輔助設(shè)備組成:水箱,堿箱及補(bǔ)水泵及氣體減壓分配框架等。
電控設(shè)備組成:整流柜,配電柜等。
設(shè)備特點(diǎn):設(shè)備設(shè)計(jì)完全是為了電廠用戶量身定做,電解槽、氣液處理裝置、氫氣干燥框架組裝為一個(gè)框架,占地面積??;產(chǎn)品氫氣純度高,含濕量低;自動(dòng)化程度高,完全實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)一鍵啟停。
電廠用制氫干燥一體化裝置 | ||||
型號(hào) | 部件名稱 | 長(zhǎng)度(mm) | 寬度(mm) | 高度(mm) |
DQ-5/3.2 | 框架 I Frame I | 3000 | 2000 | 2150 |
框架 II Frame II | 1740 | 1100 | 270(厚) | |
框架 III Frame III | 1500 | 1100 | 1500 | |
DQ-10/3.2 | 框架 I Frame I | 3000 | 2000 | 2450 |
框架 II Frame II | 1800 | 1700 | 270(厚) | |
框架 III Frame III | 1740 | 1100 | 1360 |
電廠用制氫干燥一體化裝置主要技術(shù)指標(biāo) | ||||||||
制氫裝置 | 產(chǎn)氫量m3/h | 產(chǎn)氧量m3/h | 操作壓力MPa | 氫氣純度% | 氫氣露點(diǎn)℃ | 直流電耗 | 槽體大修周期(年) | 控制方式 |
型號(hào) | Kw-h/m3H2 | |||||||
DQ-5/3.2 | 5 | 2.5 | 3.2 | ≥99.8 | ≤-50 | ≤4.9 | 5月10日 | I II III IV |
DQ-10/3.2 | 10 | 5 | 3.2 | ≥99.8 | ≤-50 | ≤4.9 | 5月10日 | I II III IV |